光刻膠去膠液PL311是針對半導體晶圓芯片制造過程而設計，光刻膠層需要在制造過程結束時，從襯底表面去除。可以迅速去除光刻膠殘留、其它刻蝕殘留物、粉塵顆粒物、油污、手印、氧化硅拋光液殘留等臟污，不引入任何污染物，潔凈度高，對各種襯底材料、鍍膜層、金屬配線無腐蝕，無毒無刺激性氣味，環保安全。
推薦視頻
黃頁88網提醒您：“光刻膠去膠液的應用案例”視頻由發布人自行提供，其真實性，合法性由發布人負責。交易匯款需謹慎，請注意調查核實。
發布視頻
主站蜘蛛池模板：
鄂尔多斯市|
逊克县|
宜阳县|
伊川县|
台中市|
竹山县|
运城市|
汽车|
剑河县|
海淀区|
专栏|
云阳县|
贵德县|
诸城市|
昭苏县|
扶余县|
涡阳县|
饶阳县|
酒泉市|
瓦房店市|
武威市|
延安市|
龙南县|
水富县|
伽师县|
黄浦区|
旬阳县|
马鞍山市|
吴川市|
临汾市|
眉山市|
安达市|
孟村|
房产|
社旗县|
嘉峪关市|
江门市|
定南县|
永城市|
韶山市|
来凤县|
TOP