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真空鍍膜生產(chǎn)線設備真空主體——真空腔根據(jù)加工產(chǎn)品要求的各異,真空腔的大小也不一樣,目前應用多的有直徑1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等,腔體由不銹鋼" target=_blank>不銹鋼材料制作,要求不生銹、堅實等,真空腔各部分有連接閥,用來連接各抽氣泵浦。
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真空鍍膜厚度屬于微米級,1μm 相當于傳統(tǒng)電鍍一條的十分之一,因此經(jīng)過鍍膜作業(yè)以后,并不會影響工件的精度;傳統(tǒng)電鍍的批覆方式是以一種包覆的方式在外形成一層電鍍層,并無高度密著性可言。
一般濕式鍍層所制作之鍍膜會在表面覆蓋成一個薄膜層 ,不論底材之原先形狀為何,表面所呈現(xiàn)出來的薄膜層都會趨于平坦。PVD 鍍層會依底材形狀平均在上方形成一個鍍膜層,依底材高低形狀有所不同,經(jīng)鍍膜后的高低形狀也是依照原先底材之態(tài)樣。
電鍍填通孔技術可分為直流電鍍一步法、脈沖電鍍一步法及脈沖電鍍兩步法。
直流電鍍一步法被視為用銅填充通孔的理想工藝,因為它可大限度地減少電鍍槽的數(shù)量和縮短電鍍生產(chǎn)線長度。但直流電鍍銅填通孔受基板厚度的限制。對于厚度小于0.20 mm、直徑為100μm的基板,搭配的設備和合適的添加劑,使用直流電鍍一步法尚可實現(xiàn)填通孔。
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